特許

J-GLOBAL ID：200903064785267412

マイクロミニチュア構造及びその組立方法

発明者： ロン-シェン・ファン ,  ハンス・ヘルムート・ザッペ
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
代理人 (1件)： 合田 潔 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-202223
公開番号（公開出願番号）：特開平6-224178
出願日： 1993年08月16日
公開日（公表日）： 1994年08月12日
要約：

【要約】【目的】 自由起立ミニチュア構造の組立方法。【構成】 基板12の材質を選択し、その材質上に被加工層58を蒸着し、形状を決定する被加工層58をパターン化する段階から構成される。フォトレジスト層60の材質は被加工層58上で蒸着され、コントラスト強調フォトリソグラフィによりフォトレジスト鋳型を形成するためパターン化される。鋳型上に、金属構造74がメッキされる。金属構造74はレジストプロファイルを同一化し、従来型シリコン高分子マイクロ構造の何倍もの厚さを有することが可能である。フォトレジスト鋳型と、被加工層58はその後エッチング液を使用して溶解され、自由起立金属構造を形成する。

請求項（抜粋）：

基板材質を選択する段階と、表面材質上に被加工層の材質を蒸着する段階と、形状を決定する該被加工層をパターン化する段階と、該被加工層上に、フォトレジスト層の材質を蒸着する段階と、フォトレジスト鋳型を形成するため該フォトレジスト層をコントラスト強調フォトリソグラフィによりパターン化する段階と、該フォトレジスト鋳型上に金属層の材質をメッキする段階と、自由起立金属構造を形成するために、エッチング液を使用して該フォトレジスト鋳型と該被加工層を溶解する段階と、から構成されることを特徴とするミニチュア構造組立方法。

IPC (3件)：

H01L 21/306 ,  G03F 7/26 ,  C23C 28/00

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭61-210636
  
• 特開昭63-214742
  
• 特開昭64-010245