特許

J-GLOBAL ID：200903064786198457

X線露光装置およびデバイス製造方法

発明者： 春見 和之 ,  宮地 剛司
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-078423
公開番号（公開出願番号）：特開平11-260710
出願日： 1998年03月11日
公開日（公表日）： 1999年09月24日
要約：

【要約】【課題】 簡易な構成でアライメントマークを保護しかつ更新マークの転写を可能とするX線露光装置を提供する。【解決手段】 マスク1と基板3を微小間隔をもって配置してX線Lを露光してマスク1上のマスクパターン1pを基板3に転写するX線露光装置において、マスク1と基板3にそれぞれ設けられたアライメントマーク1mと3mに対してアライメント光Laを照射してアライメント計測するアライメントスコープ7a〜7dの先端部にマーク1m、3mをX線Lから遮光するブレード10a〜10dを取り付け、X線の露光時に、これらのブレード10によって、アライメントしているマーク1mと3mをX線Lから遮断して、基板3上のマーク3mを保護するとともに更新マークの転写を行なう。この保護されたマーク3mは次の層のアライメントにも使用することができ、精度の良い位置合わせを可能にする。

請求項（抜粋）：

マスクと基板を微小間隔をもって接近させて配置し、X線を露光して前記マスク上に描画されたマスクパターンを前記基板上に転写するX線露光装置において、前記マスクと前記基板をアライメントするためのアライメントスコープにアライメントをとっているマークのみを遮光可能とするブレードを取り付け、該ブレードによって露光時に前記マークへのX線の入射を遮断するようにしたことを特徴とするX線露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 9/00

FI (3件)：

H01L 21/30 531 A ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 9/00 H