特許
J-GLOBAL ID：200903064786511899
気相成長方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
木戸 一彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-179634
公開番号（公開出願番号）：特開平5-175134
出願日： 1991年07月19日
公開日（公表日）： 1993年07月13日
要約：
【要約】【目的】 従来と同等の品質の薄膜が得られ、かつ、従来より遥かに薄膜の成長速度を高めることができる気相成長方法及び装置を提供する。【構成】 液体原料をスプレーノズル4から霧状にして反応管1内の基板P上に供給し、該基板P上でガス化し、熱分解させて薄膜を形成する。
請求項（抜粋）：
液体原料を霧状にして反応管内の基板上に供給し、該基板上でガス化し、熱分解することを特徴とする気相成長方法。
IPC (3件)：
H01L 21/205
, B05B 1/02
, C23C 16/46
