特許
J-GLOBAL ID:200903064790665493

光学素子成形用硝子素材の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 若林 忠
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-129319
公開番号(公開出願番号):特開平6-340431
出願日: 1993年05月31日
公開日(公表日): 1994年12月13日
要約:
【要約】【目的】 成形時に成形型と融着等の問題を起こさない光学素子成形用硝子素材を得る。【構成】 処理用硝子素材を103 Pa以下の減圧下に成形温度を越える温度に保つ。
請求項(抜粋):
光学素子の成形用硝子素材を製造する方法において、処理用硝子素材をその成形温度を越える温度で103 Pa以下の減圧下におくことを特徴とする光学素子成形用硝子素材の製造方法。
IPC (2件):
C03B 11/00 ,  C03B 40/00

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