特許
J-GLOBAL ID：200903064798827700
回折格子の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
加藤 一男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-360942
公開番号（公開出願番号）：特開平6-201909
出願日： 1992年12月28日
公開日（公表日）： 1994年07月22日
要約：
【要約】【目的】任意の位相シフトをもつ回折格子を容易に製造できるようにする回折格子の製造方法である。【構成】二光束干渉露光法及びエッチングを用いて基板10に回折格子を形成する。それにあたり、被エッチング層10上に二光束干渉露光法により形成したマスク層の回折格子周期構造12を、被エッチング層10にエッチング形成する。この際に、被エッチング層の法線ベクトルと回折格子ベクトルとを含む面内において被エッチング層の法線ベクトルから或る角度θをもつエッチング角度方向から、指向性の高いエッチングを施す。これで、マスク層の回折格子周期構造12に対して任意の位相シフトした回折格子を被エッチング層10に形成する。以上の工程を、エッチング角度を異ならせて繰り返せば、被エッチング層10の回折格子内に任意の位相シフト部が形成される。
請求項（抜粋）：
二光束干渉露光法及びエッチングを用いて基板に回折格子を形成するにあたり、被エッチング層上に前記二光束干渉露光法により形成した第1マスク層の回折格子周期構造を該被エッチング層にエッチング形成する際に、該被エッチング層の法線ベクトルと該回折格子ベクトルとを含む面内において該被エッチング層の法線ベクトルから或る角度をもつエッチング角度方向から、指向性の高いエッチングを施すことで、該マスク層の回折格子周期構造に対して任意の位相シフトした回折格子を該被エッチング層に形成する工程を有することを特徴とする回折格子の製造方法。
IPC (3件)：
G02B 5/18
, G02B 6/12
, H01S 3/18
