特許
J-GLOBAL ID：200903064827710206
ビームアニール装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
泉名 謙治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-096971
公開番号（公開出願番号）：特開平6-291035
出願日： 1993年03月31日
公開日（公表日）： 1994年10月18日
要約：
【要約】【目的】ビームアニール時のリアルタイム制御を行う。【構成】被照射体3に行うビームアニールの状態を逐次、観察機構6で検出し、その状態に応じてコントロール機構7がビーム光源1のパワー制御や、ステージ4のステージ駆動制御機構5を統合して調節することで、安定したビームアニール加工を行う。【効果】実稼働時間を向上できる。
請求項（抜粋）：
ビームを被照射体に照射し、ビームのエネルギーで被照射体をアニールするビームアニール装置であって、ビーム照射時におけるビーム散乱光を検出するセンサ機構、または、アニール部の形状をリアルタイムに計測する検知機構を少なくとも備え、さらに、ビームアニール条件をリアルタイムにフィードバックする制御手段を備えたことを特徴とするビームアニール装置。
IPC (2件)：
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