特許
J-GLOBAL ID:200903064836927730
透明電導性酸化錫膜及びその製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
吉田 勝広 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-216725
公開番号(公開出願番号):特開平8-064035
出願日: 1994年08月19日
公開日(公表日): 1996年03月08日
要約:
【要約】【目的】 3.5×10-3Ω・cm〜20×10-3Ω・cmの範囲の抵抗値を有し、高い透明性を有する透明電導性酸化錫膜の提供。【構成】 錫酸化物(又は錫酸化物とアンチモン酸化物)と、ビスマス、インジウム及びタングステンから選ばれた少なくとも1種の金属の酸化物とを含むことを特徴とする透明電導性酸化錫膜。
請求項(抜粋):
錫酸化物(又は錫酸化物とアンチモン酸化物)と、ビスマス、インジウム及びタングステンから選ばれた少なくとも1種の金属の酸化物とを含むことを特徴とする透明電導性酸化錫膜。
IPC (5件):
H01B 5/14
, C01G 30/00
, C01G 41/00
, C23C 14/08
, H01B 13/00 503
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