特許
J-GLOBAL ID:200903064846053674
磁気記録媒体のカーボン保護膜の評価方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
山田 稔
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-157775
公開番号(公開出願番号):特開平7-012714
出願日: 1993年06月29日
公開日(公表日): 1995年01月17日
要約:
【要約】【目的】 磁気記録媒体におけるカーボン保護膜の膜厚と膜質の測定評価を同時に行うことが可能なカーボン保護膜の評価方法を提供すること。【構成】 基体2の上に、非磁性下地膜3,磁性膜4及びカーボン保護膜5を少なくとも積層形成してなる磁気記録媒体のカーボン保護膜の評価方法において、カーボン保護膜5の下層の積層構造(2,3,4)を光学的下地としてエリプソメトリー測定(偏光解析法)に従い積層構造の見かけ上の光学定数を決定する。次に、カーボン保護膜5を光学的薄膜としてエリプソメトリー測定により、見かけ上の光学定数を用いてカーボン保護膜5の光学定数(屈折率と吸収係数)と膜厚を求める。屈折率はカーボン保護膜の水素含有率に精度良く対応しており、膜質決定要因となる。エリプソメーターにより同時に膜質と膜厚を測定評価できる。
請求項(抜粋):
基体の上に、非磁性下地膜,磁性膜及びカーボン保護膜を少なくとも積層形成してなる磁気記録媒体のカーボン保護膜の評価方法において、前記カーボン保護膜の下層の積層構造を光学的下地としてエリプソメトリー偏光解析法に従い前記積層構造の見かけ上の光学定数を決定してから、前記カーボン保護膜を光学的薄膜としてエリプソメトリー偏光解析法に従い、前記見かけ上の光学定数を用いて前記カーボン保護膜の光学定数と膜厚を求めることを特徴とする磁気記録媒体のカーボン保護膜の評価方法。
IPC (3件):
G01N 21/21
, G01B 11/06
, G11B 5/84
前のページに戻る