特許
J-GLOBAL ID：200903064846490276
斜め壁を用いた擁壁構築方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
久保 司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-280697
公開番号（公開出願番号）：特開2000-110158
出願日： 1998年10月02日
公開日（公表日）： 2000年04月18日
要約：
【要約】【課題】 地山保持を目的とした仮設工を必要とせず、しかも施工工種が少ないので、工期の短縮が可能となり、また、余分なく掘削できるので埋戻しを必要とせず、残土処理が少なく、埋戻しに伴う購入土に調達あるいは仮置きヤードの確保を必要としないものであり、これに加えて施工上、機械施工が中心で、危険できついブロック積みを実施する必要はなく、安全施工が可能である。【解決手段】 原位置地盤攪拌混合処理機またはコンクリート杭打設機によって、地盤を斜め方向に掘削・攪拌しながら、固化材を混合し、改良体による、もしくはコンクリートによる斜め壁12を所定の位置・角度で構築し、これより後に、または、先行して、ドレーン材を充填してなる背面排水層13を斜め壁12の後方に構築し、斜め壁12の前面側の地山をバックホウ、クラムシェル等の掘削機械を用いて計画深度まで掘削し、掘削後、背面排水層に至るまで斜め壁12を削孔して水抜き処理14を行う。
請求項（抜粋）：
斜め方向原位置地盤攪拌混合処理機によって、地盤を斜め方向に掘削・攪拌しながら、固化材を混合し、改良体による斜め壁を所定の位置・角度で構築し、これより後に、または、先行して、ドレーン材を充填してなる背面排水層を斜め壁の後方に構築し、斜め壁の前面側の地山をバックホウ、クラムシェル等の掘削機械を用いて計画深度まで掘削し、掘削後、背面排水層に至るまで斜め壁を削孔して水抜き処理を行うことを特徴とする斜め壁を用いた擁壁構築方法。
IPC (2件)：
E02D 5/18
, E02D 29/02 310
E02D 5/18
, E02D 29/02 310
2D048AA91
, 2D048BA00
, 2D048CA00
, 2D049EA02
, 2D049EA03
, 2D049EA15
, 2D049GA12
, 2D049GA14
, 2D049GC11
