特許
J-GLOBAL ID：200903064851560398
マイクロミニチュア装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
久保田 千賀志 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-293549
公開番号（公開出願番号）：特開平8-210519
出願日： 1995年10月17日
公開日（公表日）： 1996年08月20日
要約：
【要約】【課題】 熱作動マイクロアクチュエータにおいて、熱駆動基板と弁オリフィスおよび弁座が入っている基板との間の熱絶縁を改善する。【解決手段】 a.対向する主面130,118A、および主面130から主面118Aまで伸張する流れ通路114、b.主面130から突出し、流れ通路114を取り囲み、弁座を備えている一体型円環壁構造131、c.一体型円環壁構造131に隣接して設置され、主面130の周辺にある凹み130Aを備えている弁座基板112、および弁座基板112に隣接して設置され、流れ通路114を通る流体流を妨害するよう弁座128に対して閉じた位置におよび流体流を流れ通路を通すよう弁座に対して開いた位置に設置し得る弁面を備えている上部基板113を備えて成る。
請求項（抜粋）：
流体の流れを制御するマイクロミニチュア装置において、a.対向する第1および第2の主面、および前記第1の主面から前記第2の主面まで伸張する流れ通路、b.前記第1の主面から突出し、流れ通路を取り囲み、弁座を備えている一体型円環壁構造、c.前記一体型円環壁構造に隣接して設置され、前記第1の主面の周辺にある凹み、を備えている弁座基板、および弁座基板に隣接して設置され、前記流れ通路を通る流体流を妨害するよう弁座に対して閉じた位置におよび流体流を前記流れ通路を通すよう弁座に対して開いた位置に設置し得る弁面を備えている上部基板、を備えて成り、前記凹みは、それぞれ上向き表面積全体および弁座基板の厚さ全体に比較して、表面積および深さの十分な組合せを有し、上部基板と弁座基板との間の気相伝導が減るようになっているマイクロミニチュア装置。
IPC (3件)：
F16K 1/38
, F16K 31/70
, G05D 23/08
