特許

J-GLOBAL ID：200903064880458314

薄膜堆積用複合分子線源セル

発明者： 高橋 弘
出願人/特許権者： 株式会社エイコー・エンジニアリング
代理人 (1件)： 北條 和由
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-350300
公開番号（公開出願番号）：特開2003-155555
出願日： 2001年11月15日
公開日（公表日）： 2003年05月30日
要約：

【要約】【課題】 成膜した薄膜に成分の偏りが生じることなく、均一な分子の比をもった薄膜を成膜させる。【解決手段】 薄膜堆積用複合分子線源セルは、それぞれ成膜材料9、10を収納し、これら成膜材料9、10を気化させるヒータ7、8と、これら坩堝1、2から気化した成膜材料9、10の分子を1つの空間にまとめて混合する混合室5と、この混合室5から混合した分子を放出する放出口6とを有する。それぞれの坩堝1、2から放出された成膜材料9、10の分子は、混合室5で混合され、共通する放出口6を通して成膜対象物13に向けて放出される。

請求項（抜粋）：

坩堝(1)、(2)に収納した成膜材料(9)、(10)を気化し、この気化した分子を成膜対象物(13)に向けて放出し、その成膜対象物(13)の表面上に薄膜を堆積させる薄膜堆積用複合分子線源セルにおいて、それぞれ成膜材料(9)、(10)を収納し、これらを加熱して気化させる複数の坩堝(1)、(2)と、これら坩堝(1)、(2)から気化した成膜材料(9)、(10)の分子を1つの空間にまとめて混合する混合室(5)と、この混合室(5)から混合した分子を放出する放出口(6)とを有することを特徴とする薄膜堆積用複合分子線源セル。

IPC (3件)：

C23C 14/24 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14

FI (3件)：

C23C 14/24 A ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A

Fターム (12件)：

3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA62 ,  4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029CA00 ,  4K029CA02 ,  4K029DB12 ,  4K029DB14