特許
J-GLOBAL ID:200903064900837694

分極反転形成方法および光波長変換素子

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 岩橋 文雄 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-082151
公開番号(公開出願番号):特開2002-277915
出願日: 2001年03月22日
公開日(公表日): 2002年09月25日
要約:
【要約】【課題】 電界印加により強誘電体中に分極反転構造を形成する方法において、高アスペクト比の厚い分極反転を形成することを目的とする。【解決手段】 単一分極化された強誘電体結晶1と、強誘電体結晶の第1の領域に分極反転部3を形成する工程と、強誘電体結晶の第2の領域に分極反転部5を形成する工程とを有し、第1の領域と第2の領域に形成された分極反転部の少なくとも一部が重なっていることを特徴とする分極反転形成方法である。これにより形成される分極反転の周期方向広がりを抑えながら厚みを増大することが可能となり、高アスペクト比で厚い分極反転構造が形成できる。
請求項(抜粋):
単一分極化された強誘電体結晶と、前記強誘電体結晶の第1の領域に分極反転部を形成する工程と、前記強誘電体結晶の第2の領域に分極反転部を形成する工程とを有し、前記第1の領域と前記第2の領域の少なくとも一部が重なっていることを特徴とする分極反転形成方法。
Fターム (7件):
2K002AB12 ,  2K002BA01 ,  2K002CA03 ,  2K002FA24 ,  2K002FA27 ,  2K002GA07 ,  2K002HA20

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