特許
J-GLOBAL ID:200903064903071668

薬液供給装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 筒井 大和
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-197226
公開番号(公開出願番号):特開平9-042600
出願日: 1995年08月02日
公開日(公表日): 1997年02月14日
要約:
【要約】【目的】 液漏れを直ちに検知できる薬液供給装置を提供する。【構成】 半導体ウエハWをエッチング液L1 に浸漬してこの半導体ウエハWにエッチング処理を施す処理槽2と、処理槽2にエッチング液L1 を供給する薬液供給管4とを有している。薬液供給管4の途中には、エッチング液L1 を処理槽2に向かって流すポンプ5が設けられている。また、薬液供給管4を包囲するようにして、流入口7aより薬液供給管4の外周に沿って流れて流出口7bから流出する純水L2 によりエッチング液L1 を所定の温度に調節するクールニクス7が取り付けられている。クールニクス7の流出口7b近傍には、純水L2 中のイオン量から薬液供給管4を流れるエッチング液L1 の漏洩を検知するイオン電極式液漏れセンサ8が設置されている。
請求項(抜粋):
ワークを薬液に浸漬して該ワークに所定の処理を施す処理槽と、前記処理槽に薬液を供給する薬液供給管と、前記薬液供給管の途中に設けられ、前記薬液を前記処理槽に向かって流すポンプと、前記薬液供給管を包囲するようにして取り付けられ、流入口より前記薬液供給管の外周に沿って流れて流出口から流出する溶液により前記薬液を所定の温度に調節する温度調節部と、前記温度調節部に設置され、前記溶液の特性の変化から前記薬液供給管を流れる前記薬液の漏洩を検知する液漏れセンサとを有することを特徴とする薬液供給装置。
IPC (5件):
F17D 5/06 ,  C23F 1/08 101 ,  F17D 1/14 ,  F17D 3/00 ,  H01L 21/306
FI (5件):
F17D 5/06 ,  C23F 1/08 101 ,  F17D 1/14 ,  F17D 3/00 ,  H01L 21/306 J

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