特許

J-GLOBAL ID：200903064905369001

露光方法及び装置

発明者： 時田 俊伸
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 藤元 亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-433009
公開番号（公開出願番号）：特開2005-191394
出願日： 2003年12月26日
公開日（公表日）： 2005年07月14日
要約：

【課題】 気泡の混入を防止して高品位な液浸露光を行うための露光方法及び装置を提供する。【解決手段】 被露光体の表面及び投影光学系の最終面との間に液体を導入するステップと、マスクに形成されたパターンを、前記投影光学系及び前記液体を介して、前記被露光体上に投影するステップとを有する露光方法であって、前記導入ステップは、前記被露光体の表面と前記投影光学系の前記最終面との間を前記液体で充填するステップを有し、当該充填ステップは、前記液体の毛細管力を前記投影ステップ時に働く毛細管力とは変化させることを特徴とする露光方法を提供する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

被露光体の表面及び投影光学系の最終面との間に液体を導入するステップと、 マスクに形成されたパターンを、前記投影光学系及び前記液体を介して、前記被露光体上に投影するステップとを有する露光方法であって、 前記導入ステップは、前記被露光体の表面と前記投影光学系の前記最終面との間を前記液体で充填するステップを有し、 当該充填ステップは、前記液体の毛細管力を前記投影ステップ時に働く毛細管力とは変化させることを特徴とする露光方法。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  G03F7/20

FI (2件)：

H01L21/30 515D ,  G03F7/20 521

Fターム (5件)：

5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CB01 ,  5F046CB25 ,  5F046CB27

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 国際公開第99/49504号パンフレット