積層体の膜評価法及びこれを用いた膜評価装置及び薄膜製造装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-010466
公開番号（公開出願番号）：特開平6-221841
出願日： 1993年01月26日
公開日（公表日）： 1994年08月12日
要約：

【要約】【目的】より迅速かつ精度良く膜厚や密度,界面の状態を非破壊的に評価できるX線反射率法による積層体評価方法を提供すること。【構成】積層体からのX線反射率曲線を20点以上の計測点の均等平均を任意の回数繰り返すことにより求めたベースラインにより補正し振動成分のみを抽出した結果を対象とする層の屈折率を用いて横軸を変換した後、フーリエ変換し、その結果から膜厚を求める。【効果】本発明により、迅速かつ精度良く薄膜の膜厚,屈折率,ラフネスを評価することができる。さらに、本手法を薄膜製造装置に導入することにより、不良品を除去し、均質な製品を製造することができる。

請求項（抜粋）：

基板上に1層以上の膜を形成した積層体からのX線反射率から積層体各層の膜厚をフーリエ変換法により求める解析法において、計測点の均等平均を任意の回数繰り返すことにより求めたベースラインにより補正し、振動成分のみを抽出した結果をフーリエ変換することを特徴とするX線反射率解析法。

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開平4-050715
特開平4-050715
特開平4-050715

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