特許
J-GLOBAL ID：200903064937022798
ナノインプリント用金型の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-039690
公開番号（公開出願番号）：特開2008-200997
出願日： 2007年02月20日
公開日（公表日）： 2008年09月04日
要約：
【課題】ナノインプリント用金型のコストを低減するナノインプリント用金型の製造方法を提供する。【解決手段】金型用基板2上に金型用樹脂膜3が形成され、該金型用樹脂膜3にはナノオーダの凹凸からなる金型パターンが形成されたナノインプリント用金型4において、電子ビーム描画法によって作製されたナノオーダの凹凸からなるマザーパターンを有するマザー金型原盤1を上記金型用樹脂膜3に押し付けてマザーパターンを反転して転写させることにより、上記金型パターンが形成される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
金型用基板上に金型用樹脂膜が形成され、該金型用樹脂膜にはナノオーダの凹凸からなる金型パターンが形成されたナノインプリント用金型において、
電子ビーム描画法によって作製されたナノオーダの凹凸からなるマザーパターンを有するマザー金型原盤を上記金型用樹脂膜に押し付けてマザーパターンを反転して転写させることにより、上記金型パターンが形成されることを特徴とするナノインプリント用金型の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B29C59/02 B
, H01L21/30 502D
4F209AA44
, 4F209AJ01
, 4F209AJ03
, 4F209AJ08
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PC01
, 4F209PC05
, 4F209PN06
, 4F209PN09
, 4F209PQ11
, 5F046AA28
