特許
J-GLOBAL ID：200903064937478309
露光方法及び露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-318163
公開番号（公開出願番号）：特開平6-163366
出願日： 1992年11月27日
公開日（公表日）： 1994年06月10日
要約：
【要約】【目的】 設置された状態の光学系の個々の光学素子の形状誤差と設置誤差を計測する。該計測機能と光学素子面の修正機能を備えた露光装置および方法を実現する。【構成】 測定する光学系11〜14のフィールド内で、光源位置と結像点位置を移動位置決めしながら波面収差分布を測定し、反射面位置誤差と波面収差の関係を線形近似した係数群を用いて、各光学面11〜14上の複数点における面位置誤差の修正量を得る。露光装置において、干渉計23、凹面鏡24を備えたウェハステージ2、参照球面21、および露光光学系11〜14の面形状を制御するアクチュエータ群を備え、該修正量に基づき光学面11〜14を修正して露光する。【効果】 個々の光学面の設置及び形状誤差を装置上で計測できる。また、露光光学系の誤差を修正し、収差を常に小さく保って露光を行う露光装置を実現できる。
請求項（抜粋）：
光ないしX線用の光学系の測定方法であって、波面収差測定における光源位置及び結像点位置を、測定する光学系においてそれぞれ有効な領域内の複数の点のうちの1点に移動位置決めする工程と、測定する光学系の波面収差を計測する工程とからなる工程を繰り返して上記の複数の点における波面収差を測定する工程と、光学系を構成する各光学素子面上の複数の点における面法線方向の面位置の修正量を計算する工程からなることを特徴とする、光学系の測定方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 503
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 331 A
, H01L 21/30 311 L
, H01L 21/30 331 E
