特許

J-GLOBAL ID：200903064945968102

ガス濃縮装置

発明者： 福岡 崇行
出願人/特許権者： 日本エア・リキード株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 崇生 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-021275
公開番号（公開出願番号）：特開2000-218126
出願日： 1999年01月29日
公開日（公表日）： 2000年08月08日
要約：

【要約】【課題】 供給ガス中の被濃縮ガスの濃度が変化する場合でも、被濃縮ガスの回収濃度と回収率とを高く維持することができるガス濃縮装置を提供する。【解決手段】 膜モジュールM1,M2を昇圧機1の出口側に二段に設けると共に、前段膜モジュールM1の透過ガスを廃棄しつつ、後段膜モジュールM2の透過ガスと未透過ガスの一部とを循環させるガス濃縮装置において、後段膜モジュールM2の未透過ガスの経路に、被濃縮ガスの回収濃度検出部S1を設けると共に、その出力情報に基づき回収濃度の低下に応じて開度が小さくなるよう制御する回収濃度制御弁2を未透過ガスの回収経路に設け、前段膜モジュールM1の透過ガスの廃棄経路に、被濃縮ガスの廃棄濃度検出部S2を設けると共に、その出力情報に基づき廃棄濃度の上昇に応じて開度が小さくなるよう制御する循環流量制御弁3を後段膜モジュールM2の未透過ガスの循環経路に設けてある。

請求項（抜粋）：

分離するガス中の被濃縮ガスを未透過側に濃縮する分離膜を備える膜モジュールを昇圧機の出口側に直列に二段に設けると共に、前段膜モジュールの透過ガスを廃棄しつつ、後段膜モジュールの透過ガスと未透過ガスの一部とを前記昇圧機の入口側へ循環させるガス濃縮装置において、前記後段膜モジュールの未透過ガスの経路に、被濃縮ガスの濃度を検出する回収濃度検出部を設けると共に、その出力情報に基づき回収濃度の低下に応じて開度が小さくなるよう制御する回収濃度制御弁を、前記未透過ガスの回収経路に設け、前記前段膜モジュールの透過ガスの廃棄経路に、被濃縮ガスの濃度を検出する廃棄濃度検出部を設けると共に、その出力情報に基づき廃棄濃度の上昇に応じて開度が小さくなるよう制御する循環流量制御弁を前記後段膜モジュールの未透過ガスの循環経路に設けてあることを特徴とするガス濃縮装置。

IPC (2件)：

B01D 53/22 ,  H01L 21/3065

FI (2件)：

B01D 53/22 ,  H01L 21/302 B

Fターム (40件)：

4D006GA41 ,  4D006HA01 ,  4D006HA61 ,  4D006JA57A ,  4D006JA58A ,  4D006JA64Z ,  4D006JA65Z ,  4D006KA52 ,  4D006KA54 ,  4D006KA56 ,  4D006KA63 ,  4D006KE01Q ,  4D006KE03Q ,  4D006KE04Q ,  4D006KE07Q ,  4D006KE09Q ,  4D006KE12P ,  4D006KE13Q ,  4D006KE14Q ,  4D006MA01 ,  4D006MA03 ,  4D006MA25 ,  4D006MC47 ,  4D006MC48 ,  4D006MC49 ,  4D006MC54 ,  4D006MC58 ,  4D006MC62 ,  4D006MC63 ,  4D006MC83 ,  4D006PA04 ,  4D006PB19 ,  4D006PB70 ,  4D006PC01 ,  5F004AA16 ,  5F004BC04 ,  5F004CA02 ,  5F004CA09 ,  5F004CB03 ,  5F004DA00