特許
J-GLOBAL ID：200903064950903973
薄膜材料およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2003005819
公開番号（公開出願番号）：WO2003-095193
出願日： 2003年05月09日
公開日（公表日）： 2003年11月20日
要約：
汎用性があり、精密かつ構造設計が可能で簡便に製造することができ、高強度で自己支持性を有する簿膜材料が、表面に水酸基またはカルボキシル基を提示する高分子の薄膜層と、該水酸基またはカルボキシル基を利用して高分子の薄膜層と配位結合または共有結合している金属酸化物薄膜層または有機/金属酸化物複合薄膜層から構成され、全体の厚みが300nm以下である薄膜材料により提供される。
請求項（抜粋）：
表面に水酸基またはカルボキシル基を提示する高分子の薄膜層と、該水酸基またはカルボキシル基を利用して高分子の薄膜層と配位結合または共有結合している金属酸化物薄膜層または有機/金属酸化物複合薄膜層から構成され、全体の厚みが300nm以下である薄膜材料。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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