特許
J-GLOBAL ID：200903064951976575

粉体のプラズマ処理方法およびその処理装置

発明者：
富内 芳昌

富内 芳昌 について

, 
榊原 康史

榊原 康史 について


出願人/特許権者：
富士電機株式会社

富士電機株式会社 について


代理人 (1件)： 篠部 正治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-207707
公開番号（公開出願番号）：特開2003-019434
出願日： 2001年07月09日
公開日（公表日）： 2003年01月21日
要約：
【要約】【課題】放射性廃棄物等の粒状あるいは粉末状の物質をプラズマガスと効率よく反応させて処理する方法を得る。【解決手段】被処理粉体をサイクロン2に導入し、高速にラセン運動させてプラズマ処理手段1へと送り、処理ガスの活性化プラズマ10と化学反応させて処理する。プラズマ処理手段1の排ガスは粉末除去用サイクロン31を経たのち排気手段4、排ガス無害化処理手段へと送る。また、プラズマ処理手段1に蓄積した残さは、処理運転終了後に取り出す。
請求項（抜粋）：
粒状あるいは粉末状の被処理物質よりなる粉体をサイクロンによりラセン状に運動させてプラズマ処理容器に供給し、前記サイクロン、あるいは前記プラズマ処理容器のガス導入口より導入された処理ガスの活性化プラズマと化学反応させて処理することを特徴とする粉体のプラズマ処理方法。
IPC (9件)：
B01J 19/08 ZAB ,  A62D 3/00 ,  B09B 3/00 ,  B09C 1/02 ,  B09C 1/08 ,  C23C 14/34 ,  C23C 16/509 ,  G21F 9/32 ,  H05H 1/30
FI (10件)：
B01J 19/08 ZAB K ,  A62D 3/00 ,  C23C 14/34 S ,  C23C 16/509 ,  G21F 9/32 B ,  G21F 9/32 F ,  H05H 1/30 ,  B09B 3/00 304 K ,  B09B 3/00 304 L ,  B09B 3/00 304 Z
Fターム (38件)：
2E191BA12 ,  2E191BA13 ,  2E191BB01 ,  2E191BD18 ,  4D004AA16 ,  4D004AA41 ,  4D004AA47 ,  4D004AA50 ,  4D004AB06 ,  4D004AB07 ,  4D004CA34 ,  4D004CB04 ,  4D004CB31 ,  4D004CB42 ,  4G075AA42 ,  4G075BA05 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075EA01 ,  4G075EA06 ,  4G075EB41 ,  4G075EC21 ,  4G075FB02 ,  4G075FC15 ,  4K029AA01 ,  4K029BD00 ,  4K029BD01 ,  4K029CA05 ,  4K029EA06 ,  4K029EA09 ,  4K029JA01 ,  4K030CA01 ,  4K030FA03 ,  4K030GA02 ,  4K030JA14 ,  4K030KA30 ,  4K030LA15 ,  4K030LA18
引用特許：
審査官引用 (2件)
  • 超微粒子の製造装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-308174   出願人：日清製粉株式会社, 梅屋薫
  • 特開昭61-004789

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