特許

J-GLOBAL ID：200903064963133492

アルケニル基を有するシロキサンコポリマー、その製法、架橋可能な組成物及び接着性物質を拒絶する被覆物の製法

発明者： クリスティアーン ヘルツィッヒ ,  ベルンヴァルト ドイプツァー ,  デイヴィド ヒュットナー
出願人/特許権者： ワツカー-ケミー ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング
代理人 (1件)： 矢野 敏雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-186659
公開番号（公開出願番号）：特開平5-194743
出願日： 1992年07月14日
公開日（公表日）： 1993年08月03日
要約：

【要約】【目的】 アルケニル基を有するシロキサンコポリマー、その製法、架橋可能な組成物及び接着性物質を拒絶する被覆物の製法。【構成】(a) 式:【化1】のシロキサン単位、(b) 1分子当り少なくとも1個の式:【化2】のシロキサン単位(c) 式:【化3】の単位の群から選択される1分子当り平均して少なくとも1個の単位を含有するアルケニル基を有するシロキサンコポリマー。

請求項（抜粋）：

(a) 式:【化1】[式中Rは同一又は異なるもので、1基当り1〜18個の炭素原子を有するハロゲン化されていてもよい炭化水素基を表わし、R1 は1個のエーテル酸素原子によって置換されていてよい1基当り1〜4個の炭素原子を有する同一又は異なるアルキル基を表わし、aは0,1,2又は3であり、bは0,1,2又は3でありかつa+bの合計は3よりも大きくはない]のシロキサン単位、(b) 1分子当り少なくとも1個の、式:【化2】[式中Rは前記のものであり、cは0,1又は2であり、Aは式:-CH2CHR3-R2(CR3=CH2)x-1の基を表わし、この際R2は1基当り1〜25個の炭素原子を有する2価、3価又は4価の炭化水素基を表わし、R3は水素原子又は1基当り1〜6個の炭素原子を有するアルキル基を表わし、かつxは2,3又は4を表わす]のシロキサン単位及び(c) 式:【化3】[式中R及びcは前記のものであり、A1は式:【化4】の基を表わし、この際R2,R3及びxは前記のものであり、A2は式:【化5】の基を表わし、この際R2及びR3は前記のものを表わすが、R2は2価の炭化水素基ではないことが条件であり、かつA3は式:【化6】の基を表わし、この際R2及びR3は前記のものであるが、R2は2価又は3価の基ではないことが条件である]の単位の群から選択される1分子当り平均少なくとも1個の単位を含有する、アルケニル基を有するシロキサンコポリマー。

IPC (6件)：

C08G 77/38 NUF ,  C08L 83/05 ,  C08L 83/07 LRN ,  C09D183/05 ,  C09D183/07 PMU ,  C08G 77/20 NUG

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平4-145188