特許
J-GLOBAL ID：200903064969426815
化学増幅型ポジレジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-245127
公開番号（公開出願番号）：特開平10-090882
出願日： 1996年09月17日
公開日（公表日）： 1998年04月10日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 高感度、高解像力を有し、優れたレジストパターンが得られ、且つレジストの耐熱性が良好なポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 架橋結合と酸の作用により分解しアルカリ現像液中での溶解性を増大させる基とを有するアルカリ可溶性樹脂及び活性光線または放射線の照射により、スルホン酸を発生する特定の構造の化合物、例えば下記の構造式の化合物を含有する化学増幅型ポジレジスト組成物。
請求項（抜粋）：
架橋結合と酸の作用により分解しアルカリ現像液中での溶解性を増大させる基とを有するアルカリ可溶性樹脂、及び活性光線または放射線の照射により、スルホン酸を発生する下記一般式(I)または(II)で表される化合物、を含有することを特徴とする化学増幅型ポジレジスト組成物。【化1】式中、R1 〜R5 は各々同じでも異なってもよく水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子又は-S-R6 基を示す。R6 はアルキル基又はアリール基を示す。X- は、分岐状又は環状の炭素数8個以上のアルキル基及びアルコキシ基の群の中から選ばれる基を少なくとも1個有するか、直鎖状、分岐状又は環状の炭素数4〜7個のアルキル基及びアルコキシ基の群の中から選ばれる基を少なくとも2個有するか、もしくは直鎖状又は分岐状の炭素数1〜3個のアルキル基及びアルコキシ基の群の中から選ばれる基を少なくとも3個有するベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸又はアントラセンスルホン酸のアニオンを示す。
IPC (5件)：
G03F 7/004 503
, G03F 7/00 503
, G03F 7/033
, G03F 7/039 601
, H01L 21/027
G03F 7/004 503 A
, G03F 7/00 503
, G03F 7/033
, G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
