特許
J-GLOBAL ID：200903064970878320
薄膜形成装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井内 龍二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-245846
公開番号（公開出願番号）：特開平7-106258
出願日： 1993年10月01日
公開日（公表日）： 1995年04月21日
要約：
【要約】【構成】 マイクロ波導入用の開口部10を有し、マイクロ波の導入によりプラズマを生成させ、プラズマを利用して試料に薄膜を形成する反応容器3を備えた薄膜形成装置において、開口部10にマイクロ波を透過させると共に反応容器3を封止する窓材6が配置される一方、窓材6に高周波を印加するための平板電極18が窓材6にろう付けされている薄膜形成装置。【効果】 高周波の印加によって窓材6が加熱されても、ろうが熱の伝達を促進するので、窓材6の温度上昇を抑えることができ、窓材6の破損を抑制することができる。
請求項（抜粋）：
マイクロ波導入用の開口部を有し、マイクロ波の導入によりプラズマを生成させ、前記プラズマを利用して試料に薄膜を形成する反応容器とを備え、前記開口部にマイクロ波を透過させると共に前記反応容器を封止する窓材が配置される一方、該窓材に高周波を印加するための電極が前記窓材にろう付けされていることを特徴とする薄膜形成装置。
IPC (3件)：
H01L 21/205
, C23C 16/50
, H05H 1/46
