特許

J-GLOBAL ID：200903064976480230

被覆部材の製造方法

発明者： 森 広行 ,  太刀川 英男 ,  奥村 望 ,  森 英視 ,  南口 経昭
出願人/特許権者： 株式会社豊田中央研究所 ,  株式会社デンソー
代理人 (1件)： 大川 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-121142
公開番号（公開出願番号）：特開平11-310868
出願日： 1998年04月30日
公開日（公表日）： 1999年11月09日
要約：

【要約】【課題】基材と被覆膜との密着性が高くかつ表面が平滑な被覆膜をもつ部材の製造方法を提供する。【解決手段】この被覆部材の製造方法は、基材の被覆すべき表面に予め周期律表の第4属〜第6属に属する元素の少なくとも1種を有する窒化物層、炭化物層または炭窒化物層である中間層を形成する第1工程と、該中間層の表面にアルゴン、ヘリウム及び水素の一種類以上を含む凹凸形成ガスを用いてイオン衝撃し、平均高さが10〜100nmの範囲、平均の幅が10〜300nmの範囲にある凸部を形成して凹凸面とする第2工程と、該凹凸面上に被覆膜を形成する第3工程と、よりなる。中間層によりイオン衝撃による凹凸の形成が一層安定し容易となる。このため被覆膜の剥離強度が高くなる。

請求項（抜粋）：

基材の被覆すべき表面に予め周期律表の第4属〜第6属に属する元素の少なくとも1種を有する窒化物層、炭化物層または炭窒化物層を形成する第1工程と、該窒化物層、炭化物層または炭窒化物層の表面に希ガスに属するガス及び水素の一種類以上を含む凹凸形成ガスを用いてイオン衝撃し、平均高さが10〜100nmの範囲、平均の幅が10〜300nmの範囲にある凸部を形成して凹凸面とする第2工程と、該凹凸面上に被覆膜を形成する第3工程と、よりなることを特徴とする被覆部材の製造方法。

IPC (4件)：

C23C 14/06 ,  C23C 14/58 ,  C23C 30/00 ,  C23F 4/00

FI (5件)：

C23C 14/06 H ,  C23C 14/58 Z ,  C23C 30/00 B ,  C23C 30/00 C ,  C23F 4/00 C

引用特許：

審査官引用 (2件)

• ダイヤモンドまたはダイヤモンド状炭素被覆硬質材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-048299   出願人：住友電気工業株式会社
• 被覆部材およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-281102   出願人：株式会社豊田中央研究所