特許
J-GLOBAL ID：200903064977552692
露光装置及び該露光装置を用いてデバイスを製造する方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-119971
公開番号（公開出願番号）：特開平7-074092
出願日： 1994年06月01日
公開日（公表日）： 1995年03月17日
要約：
【要約】【目的】 露光量むらを小さくする。【構成】 エキシマレーザー1からの複数個のパルス光を走査中のレチクル9を介して走査中の基板11に照射することにより基板を走査露光する露光装置において、制御系103により、露光量検出器102で検出した前回のパルス光による露光量に基づいて、適正露光量になるようレーザー1の今回のパルス光の発振時刻を制御する。
請求項（抜粋）：
順次供給される複数個のパルス光により基板を露光する露光装置において、前の少なくとも1つのパルス光の露光量に応じて今回のパルス光による露光の時刻を制御する手段を有することを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 515 B
, H01L 21/30 516 D
