ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：萩野平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-052008
公開番号（公開出願番号）：特開平9-244231
出願日： 1996年03月08日
公開日（公表日）： 1997年09月19日
要約：

【要約】【課題】本発明は、安全性に優れ、塗れ残り、ストリエーション等の故障が無く、また、塗布均一性および溶液の保存安定性が優れ、しかも、吸湿性、感度、解像力、耐熱性及びレジスト形状に優れているポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 (a)アルカリ可溶性樹脂、(b)1,2-ナフトキノンジアジド-4-(及び/又は-5-)スルホン酸エステル、及び(c)置換基を有し得るアルコキシブチルアセテート及び/又はアルコキシペンチルアセテートを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(a)アルカリ可溶性樹脂、(b)1,2-ナフトキノンジアジド-4-(及び/又は-5-)スルホン酸エステル、及び(c)アルコキシブチルアセテート及び/又はアルコキシペンチルアセテートを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/004 501 , G03F 7/022 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/004 501 , G03F 7/022 , H01L 21/30 502 R

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