特許

J-GLOBAL ID：200903064999695772

膜形成用組成物の製造方法

発明者： 秋池 利之 ,  黒澤 孝彦 ,  塩田 淳 ,  山田 欣司 ,  後藤 幸平
出願人/特許権者： ジェイエスアール株式会社
代理人 (1件)： 白井 重隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-116285
公開番号（公開出願番号）：特開2000-302869
出願日： 1999年04月23日
公開日（公表日）： 2000年10月31日
要約：

【要約】【課題】 塗布膜の均一性、誘電率特性、保存安定性および下地に対する密着性などのバランスに優れた膜形成用組成物の製造方法を提供すること。【解決手段】 溶媒中、一般式(I);R1 Si(OR2 )3 (式中、R1 は1価の有機基を示し、R2 は同一または異なり、アルキル基、アリール基またはアシル基を示す)で表されるオルガシラン(I)の加水分解縮合物の存在下に、一般式(II) ;(R1 )2 Si(OR2 )2 で表されるオルガノシラン(II) および/または一般式(III);Si(OR2 )4 で表されるオルガノ(III)を加水分解し、縮合する。

請求項（抜粋）：

溶媒中、下記一般式(I)で表されるオルガノシラン(I)の加水分解縮合物の存在下に、下記一般式(II) で表されるオルガノシラン(II)および/または下記一般式(III)で表されるオルガノシラン(III)を加水分解し、縮合することを特徴とする膜形成用組成物の製造方法。R1 Si(OR2 )3 ・・・・・(I)(式中、R1 は1価の有機基を示し、R2 は同一または異なり、アルキル基、アリール基またはアシル基を示す。)(R1 )2 Si(OR2 )2 ・・・・・(II)(式中、R1 は同一または異なり、1価の有機基を示し、R2 は同一または異なり、アルキル基、アリール基またはアシル基を示す。)Si(OR2 )4 ・・・・・(III)(式中、R2 は同一または異なり、アルキル基、アリール基またはアシル基を示す。)

IPC (3件)：

C08G 77/06 ,  C09D 5/25 ,  C09D183/00

FI (3件)：

C08G 77/06 ,  C09D 5/25 ,  C09D183/00

Fターム (12件)：

4J035BA06 ,  4J035CA01K ,  4J035CA06K ,  4J035EA01 ,  4J035LA03 ,  4J035LB20 ,  4J038DL031 ,  4J038DL051 ,  4J038DL141 ,  4J038NA11 ,  4J038NA12 ,  4J038NA21

引用特許：

審査官引用 (7件)

• 上塗り塗料組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-308144   出願人：関西ペイント株式会社
• 塗料組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-213052   出願人：関西ペイント株式会社, 信越化学工業株式会社
• 熱硬化性組成物、その製造方法およびカラーフィルタ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-069956   出願人：東レ株式会社
• 半導体装置およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-118584   出願人：触媒化成工業株式会社
• 特開平3-263476
  
• 特開平3-054279
  
• 特開平3-053529