特許

J-GLOBAL ID：200903065010100135

マスク構造体、該マスク構造体を用いた露光方法および露光装置、該マスク構造体を用いて作製された半導体デバイス、ならびに半導体デバイス製造方法

発明者： 千葉 啓子 ,  前原 広 ,  小倉 真哉
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-093521
公開番号（公開出願番号）：特開2000-284468
出願日： 1999年03月31日
公開日（公表日）： 2000年10月13日
要約：

【要約】【課題】 付着物やゴミ等によるマスク表面の汚染を防ぎ、洗浄の回数を減少または無くして、マスクの長寿命化を図る。【解決手段】 所望のパターンを基板上に露光するために用いられるマスクにおいて、該マスクの被転写体側表面に光触媒を付着させ、被転写体側表面の反対側にペリクルを設ける。

請求項（抜粋）：

所望のパターンを基板上に露光するために用いられるマスクにおいて、該マスクの被転写体側表面に光触媒を有し、該マスクの被転写体側表面の反対側にペリクルを設けたことを特徴とするマスク構造体。

IPC (3件)：

G03F 1/14 ,  G03F 1/16 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 1/14 G ,  G03F 1/14 J ,  G03F 1/16 A ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 531 M

Fターム (13件)：

2H095BA10 ,  2H095BB30 ,  2H095BC24 ,  2H095BC26 ,  2H095BC39 ,  5F046AA25 ,  5F046CB17 ,  5F046DA29 ,  5F046GA04 ,  5F046GA20 ,  5F046GD03 ,  5F046GD04 ,  5F046GD20