特許

J-GLOBAL ID：200903065010514010

ELラミネート誘電層構造体および該誘電層構造体生成方法ならびにレーザパターン描画方法およびディスプレイパネル

発明者： シンウェイ ウー ,  ジェイムズ アレクサンダー ロバート スタイルズ ,  ケン コック フー ,  フィリップ ベイリー
出願人/特許権者： ウェステイム テクノロジーズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 矢野 敏雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-327981
公開番号（公開出願番号）：特開平7-050197
出願日： 1993年12月24日
公開日（公表日）： 1995年02月21日
要約：

【要約】【目的】 エレクトロルミネセンスラミネートの誘電層を改善する。【構成】 誘電層は厚膜層としてセラミック材料から生成される。この場合、約1.0×106 V/mの絶縁耐力と、誘電材料の誘電率と燐光層の誘電率との比が約50:1よりも大きくなるような誘電率を有する。また、誘電層の厚さと燐光層の厚さの比が約20:1〜500:1の範囲内になるような厚さを有する。さらに、燐光層と両立性があり、この燐光層が所定の励起電圧で全体的に均一に発光するのに十分に滑らかである、燐光層と隣接する表面を有する。

請求項（抜粋）：

前面電極と背面電極との間に挟まれた燐光層を有し、前記背面電極は基板上に形成されており、前記燐光層は誘電層により背面電極から分離されている形式の、ELラミネート誘電層構造体において、セラミック材料により生成された平坦な層を有しており、該層は、約1.0×106 V/mよりも大きい絶縁耐力と誘電材料の誘電率と燐光体の誘電率の比が50:1よりも大きくなるような誘電率を有しており、前記誘電層は、当該誘電層の厚さと前記燐光層の厚さの比が約20:1〜500:1の範囲内になるような厚さを有し、該誘電層は、前記燐光層と両立性があり該燐光層が所定の励起電圧で全体的に均一に発光するのに十分に滑らかである、前記燐光層に隣接する平面を有することを特徴とする、ELラミネート誘電層構造体。

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開昭61-230296
  
• 特開昭64-063297
  
• 特開平4-075295
  
• 特開平2-132791
  
• 特開昭63-174297