特許

J-GLOBAL ID：200903065017951416

感放射線性樹脂組成物

発明者： 下川 努 ,  遠藤 昌之 ,  別所 信夫
出願人/特許権者： 日本合成ゴム株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 俊一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-039925
公開番号（公開出願番号）：特開平7-248629
出願日： 1994年03月10日
公開日（公表日）： 1995年09月26日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 感度、現像性に優れ残膜率に優れるとともに、耐熱性、耐薬品性、基板との密着性、可視光領域における透明性に優れたポジ型レジスト膜を形成しうるような感放射線性樹脂組成物を提供する。【構成】 [A](a-1) 不飽和カルボン酸と、(a-2) 下記一般式[I]で示されるエポキシ基含有ラジカル重合性化合物と、必要に応じて(a-3) 上記の(a-1) 、(a-2) と共重合しうる他のラジカル重合性化合物との共重合体と、[B]1,2-キノンジアド化合物とからなる。(式中、R1〜R3は、それぞれ独立に水素原子または炭素原子数1〜10のアルキル基であり、mは1〜5の整数である。)

請求項（抜粋）：

[A](a-1) 不飽和カルボン酸と、(a-2) 下記の一般式[I]で示されるエポキシ基含有ラジカル重合性化合物と、【化1】必要に応じて(a-3) 上記の(a-1) 、(a-2) と共重合しうる他のラジカル重合性化合物との共重合体と、[B]1,2-キノンジアジド化合物とからなることを特徴とする感放射線性樹脂組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/022 ,  G03F 7/027 501 ,  G03F 7/027 515 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027