特許

J-GLOBAL ID：200903065020169699

文字描画装置

発明者： 大園 正司
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 岩橋 文雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-322310
公開番号（公開出願番号）：特開2002-132245
出願日： 2000年10月23日
公開日（公表日）： 2002年05月09日
要約：

【要約】【課題】 文字描画装置において、ビットマップフォントを高速に描画する。【解決手段】 文字の濃度に応じた濃度パターンを作成し、フォントビットマップでマスク処理を行って描画する第1の描画手段2と、フォントビットマップをそのまま描画する第2の描画手段3とを有し、濃度値に応じて何れかの描画手段を選択する。

請求項（抜粋）：

二値の画像データを記憶する画像記憶手段と、二値の濃度パターンを文字の濃度値に応じて作成し、前記濃度パターンと文字の形状を示した二値の形状ビットマップと前記画像記憶手段に記憶された二値の画像データとの演算を行い、演算結果を前記画像記憶手段に記憶させる第1の描画手段と、文字の形状を示した二値の形状ビットマップと、前記画像記憶手段に記憶された二値の画像データとを演算し、その演算結果を前記画像記憶手段に記憶させる第2の描画手段と、文字の濃度値に応じて、前記第1の描画手段、または前記第2の描画手段の何れかを選択する選択手段とを有することを特徴とする文字描画装置。

IPC (3件)：

G09G 5/22 630 ,  G09G 5/22 670 ,  B41J 2/485

FI (3件)：

G09G 5/22 630 M ,  G09G 5/22 670 P ,  B41J 3/12 C

Fターム (19件)：

2C062AA45 ,  2C062AA47 ,  5C082AA01 ,  5C082AA32 ,  5C082BA02 ,  5C082BA34 ,  5C082BB12 ,  5C082BB13 ,  5C082BB15 ,  5C082BB32 ,  5C082DA13 ,  5C082DA22 ,  5C082DA32 ,  5C082DA42 ,  5C082DA53 ,  5C082DA86 ,  5C082DA87 ,  5C082DA89 ,  5C082MM02