特許
J-GLOBAL ID:200903065020319445
ニトリル化合物調製のためのプロセス
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (6件):
社本 一夫
, 増井 忠弐
, 小林 泰
, 千葉 昭男
, 富田 博行
, 細川 伸哉
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-510427
公開番号(公開出願番号):特表2004-533483
出願日: 2002年06月27日
公開日(公表日): 2004年11月04日
要約:
式(1):【化1】(式中、R1は、H、場合によって置換されていてもよいアシル、場合によって置換されていてもよいアルキル、場合によって置換されていてもよいアリールもしくは場合によって置換されていてもよいヘテロアリールであり;R2およびR3は、それぞれ独立してHもしくはヒドロキシ保護基である)の化合物調製のためのプロセスであって、(a)式(2):【化2】の化合物を塩基の存在下溶媒中で式R4SO2X(式中、R4は、場合によって置換されていてもよいアルキル、場合によって置換されていてもよいアリールもしくは場合によって置換されていてもよいヘテロアリール基であり;Xはハロゲンである)の化合物と反応させて式(3):【化3】の化合物を与え;そして(b)式(3)の化合物を相間移動触媒の存在下シアニド源と反応させる工程を含む、プロセスが提供される。
請求項(抜粋):
式(1):
IPC (10件):
C07B61/00
, C07C253/16
, C07C255/12
, C07C255/13
, C07C255/17
, C07C255/20
, C07C255/36
, C07C255/37
, C07C255/40
, C07D319/06
FI (10件):
C07B61/00 300
, C07C253/16
, C07C255/12
, C07C255/13
, C07C255/17
, C07C255/20
, C07C255/36
, C07C255/37
, C07C255/40
, C07D319/06
Fターム (12件):
4C022GA09
, 4H006AA02
, 4H006AC54
, 4H006BA65
, 4H006BB11
, 4H006BB12
, 4H006BB15
, 4H006BE06
, 4H006BE61
, 4H039CA70
, 4H039CD90
, 4H039CE90
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