特許
J-GLOBAL ID：200903065033151810
電子銃と電子銃を用いた陰極線管及び電子銃の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
青山 葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-091031
公開番号（公開出願番号）：特開平10-027557
出願日： 1997年04月09日
公開日（公表日）： 1998年01月27日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、高解像度で、明るさが時間的に安定な画像を表示する陰極線管を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明の陰極線管が具備する電子銃(2a,2b,2c)は、静電レンズ(5a,5b,5c)と電子ビーム形成部(9)とから構成され、静電レンズは、管状基板(6)と、ビームスポット係数Cを最小にし、かつ、ビームスポット係数Cmをも最小にすることができる抵抗値分布を探索する製造方法により製造される抵抗構造部(7a,7b,7c)と、管状基板に形成された抵抗構造部に所定の電圧を印加するための電気接続部(8a,8b,8c)とから構成される。
請求項（抜粋）：
静電レンズに設けられた抵抗構造部の抵抗値分布に応じて電子ビームを集束させる電子銃の製造方法において、第1の抵抗値分布から第2の抵抗値分布を選択し、前記第2の抵抗値分布における球面収差係数と前記静電レンズの倍率とから得られる第1のビームスポット係数が大略最小であるか否かを判別し、大略最小でない場合は前記第2の抵抗値分布を前記第1の抵抗値分布として帰還させることにより、前記第1のビームスポット係数の大略最小値を与える第2の抵抗値分布を探索する第1のループと、前記静電レンズの倍率に依存し前記球面収差係数に依存しない収差非依存関数と前記第1のビームスポット係数の最小値とに対して所定の重み付けを行うことにより得られる第2のビームスポット係数が大略最小であるか否かを判別し、大略最小でない場合は前記第2の抵抗値分布を前記第1の抵抗値分布として前記第1のループに帰還させることにより、前記第2のビームスポット係数の大略最小値を与える第3の抵抗値分布を探索する第2のループとを有することを特徴とする電子銃の製造方法。
IPC (4件)：
H01J 29/62
, H01J 9/18
, H01J 29/48
, H01J 31/10
H01J 29/62
, H01J 9/18 B
, H01J 29/48 A
, H01J 31/10 A
