特許

J-GLOBAL ID：200903065036561807

有害ガス処理装置

発明者： 武田 豊 ,  加藤 泰良 ,  藤沢 雅敏
出願人/特許権者： バブコック日立株式会社
代理人 (1件)： 鵜沼 辰之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-305299
公開番号（公開出願番号）：特開2001-120956
出願日： 1999年10月27日
公開日（公表日）： 2001年05月08日
要約：

【要約】【課題】 光源の光エネルギーを有効に利用できる。【解決手段】 光触媒を担持させた平板状の触媒担持板5、10を複数互いに平行に設けて形成され、この触媒担持板5、10の面内方向と有害ガス29の流れ方向とを一致させて配置した二つの触媒ユニット3、8と、この触媒ユニット3と触媒ユニット8の間に配置され触媒担持板5、10に光を照射する光源15とを備え、上流側の触媒ユニット3の上流と、下流側の触媒ユニット8の下流とに触媒担持板5、10の面内方向と垂直にフィルタ状の触媒担持体17、18を配置する。この場合、光源15の光が触媒担持板5、10の略全面に照射可能に触媒担持板5、10の隙間を広げる。

請求項（抜粋）：

光触媒を担持させた平板状の触媒担持板を複数互いに平行に位置させて形成され、該触媒担持板の面内方向と有害ガスの流れ方向とを一致させて配置した触媒ユニットと、該触媒ユニットの上流または下流に配置され該触媒ユニットの触媒担持板に光を照射する光源とを備え、前記触媒ユニットの前記光源が配置された側と反対側に前記有害ガスが通過可能な触媒担持体を前記触媒担持板の面内方向と垂直に設けてなる有害ガス処理装置。

IPC (2件)：

B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/86

FI (2件)：

B01D 53/36 ZAB B ,  B01D 53/36 J

Fターム (12件)：

4D048AA17 ,  4D048AA23 ,  4D048AB01 ,  4D048AB03 ,  4D048BA07X ,  4D048BA07Y ,  4D048BB03 ,  4D048CC31 ,  4D048CC36 ,  4D048CC57 ,  4D048CD08 ,  4D048EA01