特許

J-GLOBAL ID：200903065045754650

有機塩素系ガスの処理装置

発明者： 平山 照康 ,  丹羽 千明
出願人/特許権者： 清水建設株式会社
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-294595
公開番号（公開出願番号）：特開2000-107569
出願日： 1998年09月30日
公開日（公表日）： 2000年04月18日
要約：

【要約】【課題】 有機塩素系ガスを効率的かつ安価に処理する。【解決手段】 処理対象ガスを導入する反応容器1内に、自身の軸線を中心に回転する筒状の回転体4を反応容器の内周面に沿って複数配設する。回転体の周面には有機塩素系ガスを吸着可能な吸着剤を担体としてそれに該ガスを光化学反応により分解可能な光触媒を担持せしめてなる吸着分解処理層6を設ける。反応容器の中心部には各回転体に対して光を照射して光触媒の光化学反応を促進するランプ(光源)12を配置する。吸着剤としては繊維状活性炭を用いる。吸着分解処理層をシート状に形成して金網からなる筒状のフレーム5の周面に巻き付けて回転体を構成する。

請求項（抜粋）：

有機塩素系ガスを分解処理する装置であって、処理対象ガスが導入される反応容器内に、自身の軸線を中心に回転する筒状の回転体を前記反応容器の内周面に沿って複数配設し、該回転体の周面には有機塩素系ガスを吸着可能な吸着剤を担体としてそれに該ガスを光化学反応により分解可能な光触媒を担持せしめてなる吸着分解処理層を設け、前記反応容器の中心部には各回転体に対して光を照射して前記光触媒の光化学反応を促進する光源を配置してなることを特徴とする有機塩素系ガスの処理装置。

IPC (6件)：

B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/86 ,  B01D 53/06 ,  B01J 20/20 ,  B01J 35/02 ,  B01D 53/70

FI (6件)：

B01D 53/36 ZAB G ,  B01D 53/06 A ,  B01J 20/20 Z ,  B01J 35/02 J ,  B01D 53/36 J ,  B01D 53/34 134 E

Fターム (45件)：

4D002AA21 ,  4D002AC10 ,  4D002BA04 ,  4D002BA09 ,  4D002CA05 ,  4D002DA44 ,  4D002DA70 ,  4D002EA02 ,  4D002EA13 ,  4D012CA20 ,  4D012CC03 ,  4D012CD04 ,  4D012CG04 ,  4D048AA11 ,  4D048AB03 ,  4D048BA05X ,  4D048BA07X ,  4D048BB05 ,  4D048BB08 ,  4D048CA01 ,  4D048CB05 ,  4D048CC03 ,  4D048CC06 ,  4D048CC33 ,  4D048EA01 ,  4G066AA05B ,  4G066AA23D ,  4G066BA01 ,  4G066BA03 ,  4G066BA16 ,  4G066CA33 ,  4G066DA02 ,  4G066DA07 ,  4G069AA03 ,  4G069BA04B ,  4G069BA08A ,  4G069BA08B ,  4G069BA48A ,  4G069CA10 ,  4G069CA19 ,  4G069EA03X ,  4G069EA03Y ,  4G069EA07 ,  4G069EA12 ,  4G069EA15