特許
J-GLOBAL ID:200903065049853963
AlまたはAl合金製真空チャンバ部材の表面処理方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
植木 久一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-066231
公開番号(公開出願番号):特開平8-260196
出願日: 1995年03月24日
公開日(公表日): 1996年10月08日
要約:
【要約】【目的】 コスト的に有利な陽極酸化処理法を採用することを前提として、耐ガス腐食性及び耐プラズマ性に優れたAlまたはAl合金製真空チャンバ部材の表面処理方法を提供する。【構成】 AlまたはAl合金製真空チャンバ部材に陽極酸化処理を行うことによって、表面に開口したポアを多数有するポーラス層とポアのないバリア層からなる陽極酸化皮膜を形成するAlまたはAl合金製真空チャンバ部材の表面処理方法であって、まずポーラス型陽極酸化処理を施し、次いで非ポーラス型陽極酸化処理(ポアを形成することなくバリア層を成長させる陽極酸化処理)を行う。
請求項(抜粋):
AlまたはAl合金製真空チャンバ部材に陽極酸化処理を行うことによって、表面に開口したポアを多数有するポーラス層とポアのないバリア層からなる陽極酸化皮膜を形成するAlまたはAl合金製真空チャンバ部材の表面処理方法であって、まずポーラス型陽極酸化処理を施し、次いで非ポーラス型陽極酸化処理を行うことを特徴とするAlまたはAl合金製真空チャンバ部材の表面処理方法。
IPC (5件):
C25D 11/04 101
, C25D 11/04 302
, B01J 3/00
, C23C 16/44
, C23F 4/00
FI (5件):
C25D 11/04 101 D
, C25D 11/04 302
, B01J 3/00 K
, C23C 16/44 B
, C23F 4/00 Z
引用特許:
審査官引用 (3件)
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真空処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-302486
出願人:東京エレクトロン山梨株式会社
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特開平4-206619
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特公平5-053870
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