特許

J-GLOBAL ID：200903065050272648

フォトレジスト塗布組成物

発明者： 中野 浩二 ,  中野 恵介 ,  楠本 匡 ,  藤戸 健史
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-159850
公開番号（公開出願番号）：特開平10-010712
出願日： 1996年06月20日
公開日（公表日）： 1998年01月16日
要約：

【要約】【課題】 エチルセロソルブアセテート代替として安全な溶媒を用い、感度の経時変化が少なく、塗布性に優れ、かつ高解像で、疎ライン及び密ラインいずれのパターンにおいても焦点深度の広いフォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 アルカリ可溶性樹脂、感放射線化合物としてオルトキノンジアジド系化合物、及び溶媒からなるフォトレジスト塗布組成物において、該溶媒がプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート(A)と、沸点が50°C〜150°Cのカルボン酸エステル(B)とを、組成割合[B/(A+B)]が1〜30重量%で含有する混合溶媒であるフォトレジスト塗布組成物。

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性樹脂、感放射線化合物としてオルトキノンジアジド系化合物、及び溶媒からなるフォトレジスト塗布組成物において、該溶媒がプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート(A)と、沸点が50°C〜150°Cのカルボン酸エステル(B)とを、組成割合〔B/(A+B)〕が1〜30重量%で含有する混合溶媒であることを特徴とするフォトレジスト塗布組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/022 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/022 ,  H01L 21/30 502 R