特許

J-GLOBAL ID：200903065070009323

基板支持装置

発明者： 原 真一 ,  坂本 英治 ,  渡辺 豊
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-165334
公開番号（公開出願番号）：特開平5-335200
出願日： 1992年06月01日
公開日（公表日）： 1993年12月17日
要約：

【要約】【目的】 ペルチェ素子板状体に発生する熱歪を相殺することで、ウエハステージの変形を防止する。【構成】 ウエハステージ101は、ウエハWを載置する吸着ブロック101a、第1のペルチェ素子板状体102a、冷却水流路103aをもつ冷却ブロック103、第2のペルチェ素子板状体102bおよび前記吸着ブロック101aと同一材料、同一寸法の補助ブロック111からなり、これらは互に積層され、かつ一体的に結合されている。吸着ブロック101aの温度センサー104aおよび補助ブロック111の温度センサー104bの温度データは演算器106によって処理され、制御装置107によって第1および第2のペルチェ素子板状体102a,102bを制御する。

請求項（抜粋）：

基板を載置する載置台と、前記載置台を冷却するための冷媒流路を備えた冷却ブロックと、前記載置台と前記冷却ブロックの間に配置されたペルチェ素子板状体とからなり、これらが一体的に結合されており、かつ前記冷却ブロックの曲げ剛性および線膨張係数が、前記ペルチェ素子板状体の曲げ剛性および線膨張係数にそれぞれ近似していることを特徴とする基板支持装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G21K 5/08 ,  H01L 21/68

FI (2件)：

H01L 21/30 301 Z ,  H01L 21/30 331 A