投影露光方法および装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：森岡正樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-114327
公開番号（公開出願番号）：特開平10-294269
出願日： 1997年04月16日
公開日（公表日）： 1998年11月04日
要約：

【要約】【課題】本発明は、フォトリソグラフィ工程で用いられる投影露光装置および投影露光方法に関し、照明条件を切り替えてレチクルのパターンを投影する投影露光装置において、投影レンズのレンズ収差を低減させて結像特性の向上を図ることができる投影露光方法および装置を提供することを目的とする。【解決手段】照明条件を切り替えてレチクル1に形成されたパターンを照明可能な照明系52と、パターンの像をウェハ4上に投影する投影レンズ3とを有し、照明条件毎に変化する投影レンズ3の結像特性に対応して設けられた複数の収差補正板5のいずれかを光路中に挿入する切り替え機構64と、挿入された収差補正板5に基づく結像特性の変化を補正する結像特性制御系19を有しているように構成する。

請求項（抜粋）：

マスクに形成されたパターンを投影光学系を介して基板上に投影する投影露光装置において、前記マスクを照明する照明条件を切り替える照明条件切り替え機構と;前記照明条件毎に変化する前記投影光学系の結像特性を補正するように、前記照明条件に応じて複数の結像特性補償板を光路から挿出する挿出機構と;前記投影光学系の結像特性を調整する結像特性調整機構と;前記挿出された結像特性補償板に基づく前記投影光学系の結像特性の変化を補正するように前記結像特性調整機構を制御する制御系とを有することを特徴とする投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 516 D , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 516 A

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