配位子交換に耐性のある有機金属先駆物質溶液を用いる、化学蒸着プロセスからの流出物の削減

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：稲葉良幸 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-532260
公開番号（公開出願番号）：特表2003-512528
出願日： 2000年10月18日
公開日（公表日）： 2003年04月02日
要約：

【要約】基板上にチタン酸バリウムストロンチウム(BST)薄膜を形成する有機金属化学蒸着(MOCVD)工程などの、安定した錯体として少なくとも1つの配位子を配位結合した金属を含む少なくとも1種類の金属錯体とその金属錯体に適した溶剤媒体とを含む金属原料試薬溶液を用いる、CVD工程により蒸着される複合金属酸化物からの流出物を削減する装置および方法。この流出物を、先駆物質種およびMOCVD工程による副産物を除去するように、流出物に対する吸着作用を利用して処理する。石英微量天秤検知器などの終点検知器(62)を用いて、この吸着処理ユニットにおける初期破過条件を検知してもよい。

請求項（抜粋）：

複合金属酸化物薄膜を対応する1種類あるいは複数種類の原料試薬から基板上に蒸着するCVD工程からの流出物を削減する方法であって、該CVD工程からの該流出物を、該流出物内の有機および有機金属種に吸着親和力のある吸着媒床を通過させて流動させるステップを含む方法。

IPC (10件)：

C23C 16/44 , B01D 53/34 ZAB , B01D 53/64 , B01D 53/72 , B01J 20/08 , B01J 20/10 , B01J 20/18 , B01J 20/20 , B01J 20/26 , B01J 20/34

FI (15件)：

C23C 16/44 E , B01J 20/08 A , B01J 20/08 C , B01J 20/10 D , B01J 20/18 A , B01J 20/18 E , B01J 20/20 A , B01J 20/20 D , B01J 20/26 A , B01J 20/34 D , B01J 20/34 H , B01J 20/34 Z , B01D 53/34 120 D , B01D 53/34 ZAB , B01D 53/34 136 Z

Fターム (35件)：

4D002AA40 , 4D002AB03 , 4D002AC10 , 4D002BA04 , 4D002BA05 , 4D002CA07 , 4D002DA11 , 4D002DA14 , 4D002DA23 , 4D002DA24 , 4D002DA41 , 4D002DA45 , 4D002DA46 , 4D002EA01 , 4D002EA08 , 4D002GA02 , 4D002GB20 , 4G066AA05B , 4G066AA20B , 4G066AA22B , 4G066AA26D , 4G066AA37B , 4G066AA47B , 4G066AA61B , 4G066BA36 , 4G066CA01 , 4G066CA56 , 4G066DA02 , 4K030AA11 , 4K030BA01 , 4K030BA18 , 4K030BA42 , 4K030DA06 , 4K030EA13 , 4K030KA39

前のページに戻る