特許
J-GLOBAL ID：200903065127209014
抗菌・脱臭体
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山下 穣平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-034965
公開番号（公開出願番号）：特開平8-224289
出願日： 1995年02月23日
公開日（公表日）： 1996年09月03日
要約：
【要約】【構成】 基体と、該基体上に電解酸化法によって形成された酸化亜鉛からなる皮膜層と、該皮膜層の表面に形成された無機高分子又はフッ素樹脂を含む通気性、光透過性の表面保護層とを有する抗菌・脱臭体。【効果】 本発明の抗菌・脱臭体は悪臭ガス、細菌を光触媒効果、あるいは酸化亜鉛の効果で分解でき、且つ耐剥離性、耐摩耗性に優れており、粉落ちせず、湿気にも安定である。
請求項（抜粋）：
基体と、該基体上に電解酸化法によって形成された酸化亜鉛からなる皮膜層と、該皮膜層の表面に形成された無機高分子又はフッ素樹脂を含む通気性、光透過性の表面保護層とを有することを特徴とする抗菌・脱臭体。
IPC (2件)：
A61L 9/01
, C25D 11/34 303
A61L 9/01 E
, C25D 11/34 303
