特許
J-GLOBAL ID:200903065128565817

半導体レーザ装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小鍜治 明 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-333873
公開番号(公開出願番号):特開平7-193318
出願日: 1993年12月27日
公開日(公表日): 1995年07月28日
要約:
【要約】【目的】 本発明は、活性層の量子構造へのキャリアの注入効率を均一にすることによって、光閉じ込め係数の大きい高出力の量子構造半導体レーザを得ることを目的とする。【構成】 第2半導体障壁層16のエネルギーギャップを第1半導体障壁層15のエネルギーギャプより小さくし、第2半導体障壁層16の基底準位を量子構造の励起準位に等しくなるようにすることによって、キャリアを各量子構造に均等に注入することができるので、PN接合面に対して垂直方向の量子構造の個数を増やすことができ、高出力の量子構造半導体レーザレーザが得られる。
請求項(抜粋):
活性層に量子構造を有するPN接合半導体素子であって、前記量子構造を前記PN接合面に対して垂直方向に仕切る第1半導体障壁層と、前記量子構造をPN接合面対して水平方向に仕切る第2半導体障壁層とを有し、前記第1半導体障壁層のエネルギーギャップが、前記第2半導体障壁層のエネルギーギャップよりも大きく、さらに前記第2半導体障壁層の基底準位が前記量子構造の励起準位に等しい半導体レーザ装置。

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