特許

J-GLOBAL ID：200903065137709023

エチニルシラン類の製造方法

発明者： 井上 浩二 ,  岩田 健二 ,  石川 淳一 ,  藤掛 史朗 ,  伊藤 正義
出願人/特許権者： 三井化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-026594
公開番号（公開出願番号）：特開平10-218882
出願日： 1997年02月10日
公開日（公表日）： 1998年08月18日
要約：

【要約】【課題】 ヒドロシラン類とアセチレン類とから、エチニルシラン類を製造する方法を提供する。【解決手段】 ヒドロシラン類と、臭素の含有量が1.2重量%以下であるアセチレン類とを、金属酸化物の存在下に反応させることを特徴とするエチニルシラン類の製造方法。

請求項（抜粋）：

一般式R14-nSiHn(式中、nは1〜4の整数、R1は各々アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシル基、アシル基、アミノ基のいずれかであり各々が同じでも異なっていてもよい。)で表されるヒドロシラン類と、臭素含有量が1.2重量%以下である一般式R2C≡CH(式中、R2は水素、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、シリル基、アシル基、シアンのいずれか。)で表されるアセチレン類を、金属酸化物の存在下に反応させることを特徴とする、一般式R14-nSiHn-m(C≡CR2)m(式中、nは1〜4の整数、mは1〜nの整数、R1は各々アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシル基、アシル基、アミノ基のいずれかであり各々が同じでも異なっていてもよく、R2は水素、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、シリル基、アシル基、シアンのいずれか。)で表されるエチニルシラン化合物の製造方法。

IPC (4件)：

C07F 7/08 ,  B01J 23/04 ,  C08G 77/20 ,  C07B 61/00 300

FI (4件)：

C07F 7/08 C ,  B01J 23/04 X ,  C08G 77/20 ,  C07B 61/00 300