特許

J-GLOBAL ID：200903065140821730

液晶光学素子の製造方法

発明者： 田部井 達也 ,  進藤 忠文 ,  安藤 雅之
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 吉田 勝広 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-301552
公開番号（公開出願番号）：特開平6-130373
出願日： 1992年10月15日
公開日（公表日）： 1994年05月13日
要約：

【要約】【目的】 電着塗布方法において、形成される液晶/高分子複合膜周辺の隆起がなく、表示特性に優れた液晶光学素子を容易に且つ経済的に提供すること。【構成】 一方の電極基板面に、液晶が高分子マトリックス中に分散してなる液晶/高分子複合膜を形成し、該複合膜の面に他方の電極基板を貼合する液晶光学素子の製造方法において、電着塗装用高分子マトリックス樹脂溶液中に液晶分子が分散している液晶エマルジョンを電着浴として、上記液晶光学素子の一方の電極基板を主電極とし、該主電極の電着すべき電極部と相似形状の電極部を対向電極に設けて、上記主電極面に液晶/高分子複合膜を形成する工程を含むことを特徴とする液晶光学素子の製造方法。

請求項（抜粋）：

一方の電極基板面に、液晶が高分子マトリックス中に分散してなる液晶/高分子複合膜を形成し、該複合膜の面に他方の電極基板を貼合する液晶光学素子の製造方法において、電着塗装用高分子マトリックス樹脂溶液中に液晶分子が分散している液晶エマルジョンを電着浴として、上記液晶光学素子の一方の電極基板を主電極とし、該主電極の電着すべき電極部と相似形状の電極部を対向電極に設けて、上記主電極面に液晶/高分子複合膜を形成する工程を含むことを特徴とする液晶光学素子の製造方法。

IPC (2件)：

G02F 1/1333 ,  G02F 1/13 101