特許

J-GLOBAL ID：200903065151415768

ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： 水谷 一良 ,  安波 昭一郎
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-275335
公開番号（公開出願番号）：特開2001-100418
出願日： 1999年09月28日
公開日（公表日）： 2001年04月13日
要約：

【要約】【課題】高感度であり、0.2μm以下の高解像力を有し、矩形形状を有するフォトレジストを与え、しかも二層レジストシステムの上層レジストとして使用した場合、酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写の際に寸法シフトが少ないポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】少なくとも式(I)で示される構造単位(Lは単結合又はアリーレン基を表し、Aは芳香環又は脂環構造を表し、nは1〜6の整数を表す)を共重合成分として含有するポリシロキサンを含有するポジ型フォトレジスト組成物。【化1】

請求項（抜粋）：

少なくとも下記一般式(I)で示される構造単位を共重合成分として含有するポリシロキサンを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式(I)中、Lは単結合又はアリーレン基を表す。Aは芳香環又は脂環構造を表し、それぞれ置換基を有していてもよい。nは1〜6の整数を表す。

IPC (2件)：

G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/039 501 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (23件)：

2H025AA00 ,  2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AB20 ,  2H025AC01 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB17 ,  2H025CB33 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025CB52 ,  2H025FA17