特許

J-GLOBAL ID：200903065158259826

ガラスの光微細加工方法

発明者： 西井 準治 ,  山中 裕
出願人/特許権者： 工業技術院長
代理人 (1件)： 工業技術院大阪工業技術研究所長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-152986
公開番号（公開出願番号）：特開平9-309744
出願日： 1996年05月24日
公開日（公表日）： 1997年12月02日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】光照射およびエッチングによるガラスを光微細加工する。【解決手段】酸素体積分率0〜30%のアルゴンガスを用いたスパッタ法で作製され、GeO2の含有量が20〜95モル%であるGeO2-SiO2ガラスに、光源がエキシマレーザーなどの高調波であり、エネルギー密度が5〜1000mJ/cm2であって、ガラスのバンドギャップエネルギーよりも大きい光子エネルギーを有するか、多光子吸収課程を経てバンド間遷移が起こり得るエネルギー密度を有する光を照射した後、エッチングによって照射成分を除去する。

請求項（抜粋）：

GeO2-SiO2ガラスに光を照射した後、エッチングによって照射部分を除去することを特長とするガラスの光微細加工方法。

IPC (4件)：

C03C 15/00 ,  B01J 19/12 ,  C03C 3/04 ,  G02B 6/13

FI (4件)：

C03C 15/00 F ,  B01J 19/12 B ,  C03C 3/04 ,  G02B 6/12 M