特許
J-GLOBAL ID：200903065172191240
リフロー炉
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山田 正紀 (外1名)
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP1999005667
公開番号（公開出願番号）：WO2001-028304
出願日： 1999年10月14日
公開日（公表日）： 2001年04月19日
要約：
【要約】本発明は、搬送されてきた回路モジュールを加熱してリフロー半田付けを行なうリフロー炉に関し、搬入口や搬出口の開口が広い場合で合っても、高い実装信頼度および高い生産性を維持し、炉内で移動しながらその炉内搬入された回路モジュールの半田付け部分に窒素ガスを吹き付ける動作を行なうノズル60を備える。
請求項（抜粋）：
回路モジュールが搬入される搬入口と回路モジュールが搬出される搬出口とを有する箱体と、 該箱体内に不活性ガスを供給するガス供給部と、 該箱体内に搬入された回路モジュールを加熱することによりリフロー半田付けを行なう加熱部と、 該箱体内で移動しながら該箱体内も搬入された回路モジュールの半田付け部分に不活性ガスを吹き付ける動作を行なうノズルとを備えたことを特徴とするリフロー炉。
IPC (1件)：
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