方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外4名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-619467
公開番号（公開出願番号）：特表2003-500369
出願日： 2000年05月17日
公開日（公表日）： 2003年01月07日
要約：

【要約】本発明は、MR造影剤の調製方法であって、i)溶媒中の、水素化可能な不飽和基質化合物および該基質化合物の水素化用触媒の溶液を得ることと、ii)パラ水素(p-1H2)および/またはオルト-重水素(O-2H2)に富んだ水素ガス(H2)を含むチャンバの中に、前記溶液を小滴形態で導入し、前記基質を水素化して水素化された画像化剤を形成することと、iii)任意に、前記水素化された画像化剤を、地球の環境磁場強度よりも低い強度を有する磁場に曝すことと、iv)任意に、前記画像化剤を水性媒質中に溶解することと、v)任意に、前記画像化剤の前記水性媒質中溶液から、前記触媒を分離することと、vi)任意に、前記画像化剤の前記水性媒質中溶液から、前記溶媒を分離することと、vii)任意に、前記画像化剤の前記水性媒質中溶液を凍結させることとを含む方法を提供する。

請求項（抜粋）：

MR造影剤の調製方法であって、 i)溶媒中の、水素化可能な不飽和基質化合物および該基質化合物の水素化用触媒の溶液を得ることと、 ii)パラ水素(p-1H2)および/またはオルト-重水素(O-2H2)に富んだ水素ガス(H2)を含むチャンバの中に、前記溶液を小滴形態で導入し、前記基質を水素化して水素化された画像化剤を形成することと、 iii)任意に、前記水素化された画像化剤を、地球の環境磁場強度よりも低い強度を有する磁場に曝すことと、 iv)任意に、前記画像化剤を水性媒質中に溶解することと、 v)任意に、前記画像化剤の前記水性媒質中溶液から、前記触媒を分離することと、 vi)任意に、前記画像化剤の前記水性媒質中溶液から、前記溶媒を分離することと、 vii)任意に、前記画像化剤の前記水性媒質中溶液を凍結させることとを含む方法。

Fターム (4件)：

4C085HH07 , 4C085JJ02 , 4C085KB07 , 4C085KB59

引用特許：

審査官引用 (1件)

特開平3-182592

引用文献：

審査官引用 (6件)

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