特許

J-GLOBAL ID：200903065175836250

光学素子の製造方法

発明者： 石川 博康 ,  山梨 輝昭 ,  穂崎 憲二 ,  市塚 敏博
出願人/特許権者： 日本石油化学株式会社
代理人 (1件)： 前島 肇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-285713
公開番号（公開出願番号）：特開平7-113911
出願日： 1993年10月20日
公開日（公表日）： 1995年05月02日
要約：

【要約】【目的】 長尺の積層フィルムから配向基板フィルムのみを連続的に剥離する技術を確立して、光学素子の製造における歩留りを向上させ、生産性および経済性を飛躍的に改良する。【構成】 配向基板フィルム4/液晶高分子層/硬化接着剤層/透光性基板フィルムからなる積層フィルム1をニップロール2、3間を通過させながら、接着された液晶高分子層を配向性基板フィルム4から剥離する。

請求項（抜粋）：

配向基板フィルム上に形成された液晶高分子層を透光性基板フィルム上に連続的に転写するに際し、接着剤により該液晶高分子層と透光性基板フィルムとを接着し、ついで得られた配向基板フィルム/液晶高分子層/硬化接着剤層/透光性基板フィルムからなる積層フィルムをニップロールの間に通過させながら、接着された液晶高分子層を配向基板フィルムから剥離することを特徴とする透光性基板フィルム上に転写された液晶高分子層からなる光学素子の製造方法。

IPC (5件)：

G02B 5/30 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/13 500 ,  G02F 1/1335 510 ,  G02F 1/1337