特許
J-GLOBAL ID：200903065181938188
基板処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-171048
公開番号（公開出願番号）：特開平10-022192
出願日： 1996年07月01日
公開日（公表日）： 1998年01月23日
要約：
【要約】【課題】 装置の設置面積をコンパクト化し得る基板処理装置を提供する。【解決手段】 熱処理部1を含む複数の基板処理部と、基板を保持して各基板処理部間で移動するとともに、各基板処理部に対する基板の受渡しを行う基板搬送装置とを備えた基板処理装置において、熱処理部1を、基板Wを起立姿勢で保持する基板保持台2と、基板保持台2に保持された基板Wに対向した熱処理面3を有し、熱処理面3を加熱または冷却する熱プレート4とを備えて構成した。また、基板保持台2に保持された基板Wを、熱プレート4の熱処理面3に対して、基板Wの中心(CJ軸)周りに回転させるモーター8を備えてもよい。さらに、基板搬送装置は、基板を起立姿勢状態および水平姿勢状態で保持し得る基板保持アームを、起立姿勢と水平姿勢とで姿勢転換できるように構成した。
請求項（抜粋）：
熱処理部を含む複数の基板処理部と、基板を保持して各基板処理部間で移動するとともに、各基板処理部に対する基板の受渡しを行う基板搬送手段とを備えた基板処理装置において、前記熱処理部を、基板を起立姿勢で保持する基板保持手段と、前記基板保持手段に保持された基板に対向した熱処理面を有し、熱処理面を加熱または冷却する熱プレートと、を備えて構成したことを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 564 C
, H01L 21/68 A
, H01L 21/30 569 C
